超純水是把水中的導電介質幾乎完全去除，又把水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水，電阻率達到10MΩ*cm(25℃)。超純水常用于集成電路工業中用于半導體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制備和硅片氧化用的水汽源等，也作為其他固態電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等制作的材料。
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超純水是把水中的導電介質幾乎完全去除，又把水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水，電阻率達到10MΩ*cm(25℃)。超純水常用于集成電路工業中用于半導體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制備和硅片氧化用的水汽源等，也作為其他固態電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等制作的材料。
超純水：既將水中的導電介質幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水。電阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm極限值(25℃)。
超純水，是一般工藝很難達到的程度，采用預處理、反滲透技術、超純化處理以及后級處理四大步驟，多級過濾、高性能離子交換單元、超濾過濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法，電阻率方可達18.25MΩ*cm(25℃)。
超純水是美國科技界為了研制超純材料(半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等)應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的超臨界精細技術生產出來的水，這種水中除了水分子(H20)外，幾乎沒有什么雜質，更沒有細菌、病毒、含氯二惡英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質微量元素，一般不可直接飲用，對身體有害，會析出人體中很多離子。
超純水是指下列雜質含量極低的水：①無機電離雜質，如 Ca、Mg、Na、K、Fe2+、Fe3+、Mn、Al、HCO、CO、SO、Cl、NO、NO、SiO、PO等;②有機物，如烷基苯磺酸、油、有機鐵、有機鋁以及其他碳氫化合物等;③顆粒，如塵埃、氧化鐵、鋁、膠體硅等;④微生物，如細菌、浮游生物和藻類等;⑤溶解氣體，如N2、O2、CO2、H2S等。超純水中電離雜質的含量用水的電阻率數值來衡量。理論上，純水中只有H離子和OH離子參加導電。在25℃時超純水的電阻率為 18.3(兆歐·厘米)，一般約為15～18(兆歐·厘米)。
超純水中有機物含量由測定有機物碳含量而定，電子工業超純水中規定含量為50～200微克/升，并要求直徑大于1微米的顆粒性物質每1毫升內含量為1～2個，微生物每1毫升為0～10個?，F代采用預處理、電滲析、紫外線殺菌、反滲透、離子交換、超濾和各種膜過濾技術等，使超純水的電阻率在25℃時達到18(兆歐·厘米)。
依各種原水水質和用戶要求的不同，超純水的制備工藝大體可分為預處理、脫鹽和精處理三步。
工藝流程
超純水，目前的主要工藝流程
⒈預處理----復床 ----混床---拋光樹脂
⒉預處理----反滲透---混床---拋光樹脂
⒊預處理----反滲透----CEDI膜塊----拋光樹脂
傳統超純水制取設備工藝流程：原水—多介質過濾器—活性炭過濾器—一級除鹽—混床—超純水
膜法超純水制取設備工藝流程：原水—超濾—反滲透—EDI—超純水
在膜法工藝中，超濾，微濾替代澄清，石英砂過濾器，活性炭過濾器，除去水中的懸浮物膠體和有機物，降低濁度，SDI，COD等，可以實現反滲透裝置對污水回用的安全，高效運行，以反滲透替代離子交換器脫鹽，進一步除去有機物，膠體，細菌等雜質，可以保證反滲透出水滿足EDI進水的要求，以EDI代替混床深度脫鹽，利用電而不是酸堿對樹脂再生，避免了二次污染。
創建者：天線寶寶
修訂：2017-12-16 來源：華夏凈水器網
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